中國半導體之殤-高端光刻機

    你們知道目前全世界最難制造、生產(chǎn)流程最復雜、技術含量最高的高科技設備是什么？答案是，光刻機。什么是光刻機？光刻機是制造芯片必須的設備，現(xiàn)在智能設備產(chǎn)品非常普遍，每個智能設備中都有芯片，芯片智能設備的核心零部件。例如：生產(chǎn)一部手機，芯片必不可少，而制造芯片，就必須要用光刻機，所以它的重要性不言而喻。

    現(xiàn)在高端光刻機基本被ASML壟斷了，連NIKON市場份額都很少，具我們所知光刻機的內部極其復雜，可以說是所有知識集一體的產(chǎn)物之一。即使以科技自詡的美國、以色列、日本、德國等設備巨頭在嘗試后也不得不退出這一領域。不過這也不能說荷蘭人是最聰明的，因為現(xiàn)在的光刻機研發(fā)是集全球優(yōu)勢資源和半導體幾十年的技術積累才有這個結果的，荷蘭比其它國家的優(yōu)勢就在于他們有過這樣的積累，而其他國家為獲得優(yōu)先使用權也只能投錢支持了。就拿中芯國際購買一臺最先進的光刻機花了1.2億美元的例子來看（還被延期交貨了），光刻機的價值和制造難度可見一斑。國內做的比較好的是上海微電子裝備和中科院的某研究所不過也停留在90nm研發(fā)產(chǎn)品階段（目前ASML7nm的已量產(chǎn)），雖然國家近年來大量資金和政策投入半導體行業(yè)，但畢竟技術積累不是錢能解決的。缺人才才是限制研制的關鍵，目前國內優(yōu)秀人才都奔向計算機與金融了，基礎研究缺乏人才輸入，而光刻機恰恰吃人才，可想難度多大。但在5G和物聯(lián)網(wǎng)雙重布局的風口下，中國在芯片制造工藝方面大約比三星、臺積電和英特爾落后三代左右，目前中芯國際仍在努力改進自己的28nm工藝，14nm工藝還尚在研發(fā)當中，至于集成度更強、功耗更低的7nm技術，落后的差距可見一斑，沒有高端光刻機，基本上在未來的芯片產(chǎn)業(yè)中我們沒有任何話語權，有錢花不出去，連購買權都在別人手中。

  前面也闡述了光刻機是全世界最難制造、生產(chǎn)流程最復雜、成本最高的高科技設備，是人類知識集大成的產(chǎn)物之一，我們當前也急之不來，我們目前需要做的是培養(yǎng)和儲備相關技術型人才，腳踏實地，從低端做起，積累經(jīng)驗。相信以我們中華民族的智慧，在不久的將來在高端光刻機領域會有我們一席之地。。